EN 
EN
DA
NL
FI
FR
DE
IT
JA
KO
NO
PL
PT
RO
RU
ES
SV
TL
ID
SK
UK
VI
TH
TR
FA
BE
LA
UZ
Графитен пръстен с TaC покритие
Графитните пръстени с TaC покритие от Semixlab са проектирани за изключителна производителност в производството на полупроводници. Нашите високочисти CVD пръстени с покритие от танталов карбид (TaC) са незаменими за процесите на CVD, PVD и плазмено ецване, служейки като водещи пръстени, фокусиращи пръстени и линейни пръстени. Намалете замърсяването с частици и увеличете добива на пластини с нашите издръжливи и надеждни компоненти.
Описание
Графитният пръстен Semixlab с TaC покритие е критичен компонент, използван предимно в оборудването за производство на полупроводници. Той се състои от високочиста графитна основа, щателно покрита със слой танталов карбид (TaC). Това усъвършенствано покритие осигурява превъзходна повърхност, която предпазва графита от сурови химически среди и високи температури.
Нашите графитни пръстени с TaC покритие са инструментални в процеси като химическо отлагане от пари (CVD), физическо отлагане от пари (PVD) и плазмено ецване. Те служат като защитна бариера, водещ пръстен или ключова структурна част в реакционната камера, осигурявайки целостта и качеството на крайната полупроводникова пластина.
Характеристики
| Физични свойства на покритието от танталов карбид (TaC) | |
| Плътност | 14.3 (g/cm³) |
| Специфична излъчвателна способност | 0.3 |
| Коефициент на топлинно разширение | 6.3*10-6/K |
| Твърдост (HK) | 2000 HK |
| Устойчивост | 1 × 10-5 Ом*см |
| Термична стабилност | <2500 ℃ |
| Размерът на графита се променя | -10~-20um |
| Дебелина на покритието | ≥20um типична стойност (35um±10um) |
Приложения
Приложения в полупроводниковите процеси
Здравите свойства на нашите графитни пръстени с TaC покритие за производство на полупроводници ги правят незаменими в няколко ключови приложения.
1. Химично отлагане на пари (CVD)
При CVD процесите, където газовете реагират при високи температури, за да се отложат тънки филми върху пластини, реакционната камера е силно агресивна среда. Нашите CVD TaC покрити пръстени се използват като токоприемни пръстени, водещи пръстени и облицовъчни пръстени. Те осигуряват изключителна защита срещу корозивни газове и химически атаки, предотвратявайки замърсяване с частици и осигурявайки равномерна дебелина на филма по цялата пластина. Високата термична стабилност на TaC позволява стабилна работа дори при екстремни температури.
2. Физическо отлагане на пари (PVD)
За PVD разпрашване и електронно-лъчево изпаряване, нашите пръстени служат като основни компоненти във вакуумната камера. Те действат като екраниращи пръстени или водещи пръстени, които предпазват други чувствителни части от разпрашителни отломки и плазмено бомбардиране. Изключителната твърдост и плътност на TaC покритието го правят изключително устойчиво на ерозия на частици, драстично намалявайки риска от деградация на компонентите и последващи дефекти на пластините.
3. Плазмено ецване
По време на плазменото ецване се използва високореактивна плазма за селективно отстраняване на материал от пластината. Този процес подлага компонентите
конкурентно предимство
Предимства на Semixlab TaC покрити графитни пръстени
1. Превъзходна издръжливост
●Плътното CVD TaC покритие е устойчиво на плазма, химическо въздействие и механично износване много по-добре от чистия графит.
2. Висока чистота за добив на полупроводници
●Произведен с графит с ултра ниско съдържание на примеси и TaC покритие с висока чистота, за да се сведе до минимум йонното замърсяване.
3. Прецизна обработка и контрол на покритията
●Усъвършенствана обработка за строги допуски; равномерна дебелина на покритието за постоянна производителност.
4. Персонализиране и инженерна поддръжка
●Опции за различни диаметри, профили на напречното сечение, дебелини на покритието и уплътнителни характеристики.
●Техническа консултация за специфични за процеса проекти.
5. Бързо прототипиране и глобални доставки
● Бързо производство на мостри, глобална логистика и надеждни срокове за изпълнение.
нашите услуги
Продуктов магазин Semixlab
