Полупроводникова кварцова пластина

Кварцовата пластина Semixlab Semiconductor е прецизно полиран, ултрависокочист силициев субстрат, проектиран за взискателни среди за обработка на полупроводници.

Той се прилага широко като фиктивна пластина, носеща пластина, оптичен субстрат и основа за фотошаблон в термично окисление, CVD/LPCVD, PECVD и литографски системи.

Проектирана от 99.99% високочист SiO₂, тази кварцова пластина предлага изключителна термична стабилност, химическа инертност и оптична прозрачност, осигурявайки стабилна и без замърсяване работа в съвременни линии за производство на полупроводници.

Ⅰ. Свойства на материалите и повърхността

● Материал: Синтетичен или естествен стопен силициев диоксид (SiO₂ ≥ 99.99%).

● Опции за диаметър: 2", 4", 6", 8", 12" (възможни са размери по поръчка).

● Повърхностна обработка: Двустранно полирана, плоскост ≤ 5 μm, грапавост на повърхността ≤ 0.5 nm.

● Термична устойчивост: Стабилна до 1200°C при непрекъсната работа.

● Коефициент на термично разширение: 5.5 × 10⁻⁷ /°C.

● Оптично предаване: >90% от 190 nm до 2,600 nm.

Всяка пластина преминава през строга проверка на повърхността, проверка на размерите и анализ на чистотата, за да се гарантира пълно съответствие с изискванията за полупроводников клас.

Ⅱ. Ключови функции в полупроводниковите процеси

1. Носител на процес в CVD и LPCVD системи

Кварцовите пластини се използват като фиктивни или дистанционни пластини за стабилизиране на газовия поток и равномерността на температурата по време на отлагането на тънки филми от SiO₂, Si₃N₄ и полисилиций. Тяхната размерна прецизност осигурява равномерен растеж на филма и минимално генериране на частици по време на циклите на отлагане.

2. Приложения в окислителни и дифузионни пещи

При процеси на високотемпературно окисление и дифузия на допанти, кварцовите пластини действат като термични екрани или монитори на процеса, поддържайки равномерно разпределение на температурата и предотвратявайки замърсяване на производствените пластини.

3. Оптично и литографско приложение

Благодарение на високата си оптична пропускливост и еднородност на коефициента на пречупване, кварцовата пластина е идеална за изработка на фотошаблони, подложки за DUV експонация и инструменти за оптично калибриране. Тя гарантира постоянно пропускане на светлина за литографски системи i-line, KrF и ArF.

4. Плазмени и ецващи среди

В системите за сухо ецване и плазмено CVD, кварцовите пластини се използват като екрани за камери или плазмени прозорци, предлагайки отлична диелектрична якост и химическа устойчивост срещу халогенни газове (CF₄, SF₆, Cl₂).

5. Метрология и калибриране на оборудване

Кварцовите пластини служат като референтни пластини за калибриране на дебелината на филма, температурата и плоскостта. Тяхната ултрагладка, бездефектна повърхност позволява точни и повторяеми резултати от измерванията, осигурявайки стабилност на процеса.

Типични приложения

● Фиктивна пластина за CVD, LPCVD и PECVD системи

● Процесен носител или термичен екран в окислителни и дифузионни пещи

● Фотошаблон за UV/DUV литография

● Референтна пластина за калибриране на оборудване и метрология

● Прозорец на плазмената камера и протектор за процеса на ецване

Кварцовата полупроводникова пластина Semixlab е високопроизводителен субстрат, проектиран за най-взискателните полупроводникови процеси. Неговата термична стабилност, оптична прецизност и химическа чистота го правят незаменим в приложенията за отлагане, окисляване, литография и метрология. С цялостна персонализация и инженерна поддръжка, Semixlab предоставя решения, които увеличават максимално постоянството на процеса, надеждността на добива и оперативната ефективност. Искрено се надяваме да станем ваш дългосрочен партньор в Китай.